硅片缺陷觀測儀 位錯層錯劃痕測定儀

型號：GR/HS-WDI

硅片缺陷觀測儀(HS-WDI)，于對硅片的缺陷進(jìn)行觀察，效果非常明顯，包括肉眼無法觀測的位錯、層錯、劃痕、崩邊等。

北京硅片缺陷觀測儀實時對圖像進(jìn)行分析、測量和統(tǒng)計，提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵。配合投影儀和計算機(jī)等顯示、存儲設(shè)備，能更好的觀測和保存研究結(jié)果；產(chǎn)品特點

■適用于對硅片的缺陷觀察效果，非常明顯，包括肉眼無法觀測的位錯、層錯、劃痕、崩邊等；
■使硅片缺陷觀察工作簡單化，準(zhǔn)確化，同時大大的程度降低此項工作強(qiáng)度；
■實時對圖像進(jìn)行分析、測量和統(tǒng)計，提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵。配合投影儀和計算機(jī)等顯示、存儲設(shè)備，能更好的觀測和保存研究結(jié)果；實時對圖像進(jìn)行分析、測量和統(tǒng)計，提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵。配合投影儀和計算機(jī)等顯示、存儲設(shè)備，能更好的觀測和保存研究結(jié)果；產(chǎn)品特點

■適用于對硅片的缺陷觀察效果，非常明顯，包括肉眼無法觀測的位錯、層錯、劃痕、崩邊等；
■使硅片缺陷觀察工作簡單化，準(zhǔn)確化，同時大大的程度降低此項工作強(qiáng)度；
■實時對圖像進(jìn)行分析、測量和統(tǒng)計，提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵。配合投影儀和計算機(jī)等顯示、存儲設(shè)備，能更好的觀測和保存研究結(jié)果；實時對圖像進(jìn)行分析、測量和統(tǒng)計，提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵。配合投影儀和計算機(jī)等顯示、存儲設(shè)備，能更好的觀測和保存研究結(jié)果；產(chǎn)品特點

■適用于對硅片的缺陷觀察效果，非常明顯，包括肉眼無法觀測的位錯、層錯、劃痕、崩邊等；
■使硅片缺陷觀察工作簡單化，準(zhǔn)確化，同時大大的程度降低此項工作強(qiáng)度；
■實時對圖像進(jìn)行分析、測量和統(tǒng)計，提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵。配合投影儀和計算機(jī)等顯示、存儲設(shè)備，能更好的觀測和保存研究結(jié)果；
■北京硅片缺陷觀測儀使用 1/2"CMOS 感光芯片，具有體積小，技術(shù)*，像素較高， 成像清晰 、線條細(xì)膩、色彩豐富；
■傳輸接口為 USB2.0 高速接口， 軟件模塊化設(shè)計 ；
■有效分辨率為 200 萬像素；
■所配軟件能兼容 windows 2000 和 windows XP 操作系統(tǒng)。



推薦工作條件

■溫度：23±2℃
■濕度：60%~70%
■無強(qiáng)磁場、不與高頻設(shè)備鄰近